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產(chǎn)品中(zhōng)心

hiXAS實(shí)驗室(shì)級解(jiě)決(jué)方案
產品(pǐn)簡(jiǎn)介(jiè):

hiXAS實驗室(shì)級解決方(fāng)案(àn),用(yòng)於(yú)擴(kuò)展 X 射(shè)綫吸收(shōu)精細結構(EXAFS)和 X 射綫吸(xī)收近邊結(jié)構(gòu)(XANES)測(cè)量(liáng)。

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更新(xīn)時(shí)間(jiān):2026-06-23

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hiXAS實驗(yàn)室(shì)級解(jiě)決方(fāng)案(àn)

  • 基(jī)於實(shí)驗室(shì)的(dí)一(yī)站式EXAFS 和(hé) XANES 係統

  • 可(kě)實現(xiàn)同步輻射級(jí)別的(dí)譜圖

  • 較(jiào)高的信(xìn)噪比

  • 最(zuì)寬可達 1 keV 的(dí)帶寬

德(dé)國 hp spectroscopy hiXAS 提供完整的實(shí)驗(yàn)室(shì)級解決(jué)方(fāng)案,用(yòng)於(yú)擴(kuò)展 X 射綫(xiàn)吸收精(jīng)細結構(EXAFS)和 X 射綫(xiàn)吸收近(jìn)邊(biān)結(jié)構(gòu)(XANES)測量。係統采(cǎi)用緊(jǐn)湊設(shè)計(jì),將X射綫管(guǎn)光(guāng)源,高分辨(biàn)率光(guāng)譜儀(yí)和(hé)混合探測(cè)器集成在(zài)一(yī)起,並配備軟(ruǎn)件(jiàn)套(tào)件用(yòng)於儀器控製(zhì)和數據分(fēn)析(xī)。
其譜圖質(zhì)量(liáng)可(kě)媲(pì)美同步輻(fú)射測量,因此無需(xū)再(zài)進(jìn)行繁瑣(suǒ)的機(jī)時(shí)申請(qǐng)與(yǔ)等待。
X 射綫(xiàn)管(guǎn)光源與光譜儀覆(fù)蓋(gài) 4–30 keV 能量範圍,包括 3d 過(guò)渡(dù)金(jīn)屬的 K 吸(xī)收(shōu)邊(biān)。采(cǎi)用優化的 HAPG von Hamos 光(guāng)譜儀(yí)結構,可實(shí)現較高的信(xìn)噪比。因此,即使(shǐ)分析物(wù)濃度低(dī)至幾(jī)個(gè)重量百(bǎi)分比也可進(jìn)行(háng)測(cè)量。該係(xì)統(tǒng)兼具(jù)高(gāo)效率與高(gāo)光(guāng)譜(pǔ)分辨率,在整個吸收(shōu)邊(biān)範(fàn)圍內分(fēn)辨(biàn)率(shuài)可達(dá) E/ΔE = 4000 且保(bǎo)持穩定。
hiXAS 還提供定製(zhì)版(bǎn)本。對於(yú)更低能區的(dí)應用,請參(cān)考 proXAS。歡(huān)迎(yíng)聯係(xì)我(wǒ)們(mén)以(yǐ)討論您(nín)的(dí)具體應(yīng)用需求。

hiXAS 可用於 EXAFS 和 XANES 測量(liáng)的元素(sù)範圍。即(jí)使(shǐ)是(shì)分析(xī)物濃度(dù)僅為(wéi)幾個wt%的稀釋樣品,也(yě)可以(yǐ)在(zài)幾(jī)分鐘內完(wán)成測量。


hiXAS實驗(yàn)室級解(jiě)決(jué)方(fāng)案
桌麵型 XAS 係(xì)統(tǒng)

· X 射綫吸收邊附(fù)近的(dí)結(jié)構分(fēn)析(xī)
·
較高(gāo)靈(líng)敏度(dù).可(kě)分(fēn)析(xī)物(wù)濃度(dù)低至(zhì) 1 wt%
· 樣品全(quán)自(zì)動批量處理,無(wú)需(xū)手(shǒu)動更換晶(jīng)體(分(fēn)析晶體)

媲美同(tóng)步輻射的譜圖質量
· 可(kě)精確(què)重(zhòng)現同步輻(fú)射測量(liáng)的(dí)光譜(pǔ)特(tè)征
· 高(gāo)分辨(biàn)本領達 4000
· 帶寬(kuān)最(zuì)高(gāo)可(kě)達(dá) 600 eV
· 空(kōng)間分辨檢(jiǎn)測能力(lì),可用於(yú)評(píng)估樣(yàng)品均匀(yún)性

原位(wèi)測量
· 快(kuài)速(sù)多色(sè)(多能)采集技(jì)術(shù)支持(chí)原位(wèi)操作條(tiáo)件(jiàn)下(xià)測量(liáng),即(jí)使在(zài)長時間實驗也同(tóng)樣(yàng)適(shì)用。
· 為復雜(zá)樣品(pǐn)環境(如(rú)氣(qì)體供(gōng)應,加熱,低溫(wēn)冷卻等(děng))提供(gōng)充足的(dí)樣(yàng)品空間。
· 提供兩個接(jiē)口(kǒu),支持(chí)樣品裝(zhuāng)置(zhì)的長期使用。

hiXAS實驗(yàn)室(shì)級解(jiě)決(jué)方案

來(lái)自 hixAS 10  μm  厚(hòu)銅(tóng)箔(bó) xANES 譜(分(fēn)辨本領E/ΔE = 4000 ,藍色(sè)曲綫(xiàn))與同步輻(fú)射(shè)測(cè)量(liáng)結果(guǒ)(APS 光束(shù)綫(xiàn) 13-ID-E ,分(fēn)辨本(běn)領(lǐng) E/ΔE = 8000,橙色曲綫(xiàn))的對比。

兩(liǎng)者(zhě)高(gāo)度(dù)一致(zhì),充分(fēn)證明了 hixAS  的(dí)高(gāo)質量(liáng)測量性能。測量(liáng)時間為 8 分鐘(zhōng)。

文獻(xiàn)來(lái)源:J. Anal. At. Spectrom. 35, 2298 (2020)

hiXAS實驗(yàn)室(shì)級解(jiě)決方案

用(yòng)於合成(chéng)氣轉化(huà)的納米顆粒催化(huà)劑的(dí)氧化(huà)態分(fēn)析。通過引入 M"   Fe  作為助(zhù)劑,以調控(kòng)反應(yīng)的(dí)選(xuǎn)擇(zé)性(xìng)。

盡管 M"  含量僅為 1.4 wt% ,但 hixAS  測(cè)量(liáng)結(jié)合(hé)參考譜(pǔ)圖對比,仍能夠清晰(xī)判(pàn)定其氧化(huà)態(tài)。

文獻(xiàn)來(lái)源(yuán):Faraday Discuss. 208, 207 (2018)

EXAFS analysis
桌(zhuō)麵型 XAS 係統(tǒng)
· 在吸收邊擴展範(fàn)圍內(nèi)進(jìn)行結(jié)構分(fēn)析(xī)
· 提(tí)供(gōng)原子(zǐ)間距(jù)及近鄰配位數(shù)等信息
· 較(jiào)大(dà)帶(dài)寬,高(gāo)通量
媲(pì)美(měi)同(tóng)步(bù)輻(fú)射的(dí)譜(pǔ)圖(tú)質(zhì)量(liáng)
·  高效(xiào)率 HAPG 晶體提(tí)供實(shí)現(xiàn)EXAFS 所需(xū)的(dí)高光子通(tōng)量(liáng)(>107 ph/s)
·  極(jí)限寬帶(dài)達(dá) 1000 eV
·  高分辨本領達 1800,且在整個能量(liáng)範(fàn)圍(wéi)內保持穩定
原(yuán)位測量
· 即使(shǐ)是在(zài)持續(xù)數天的原位測量,仍然(rán)可以(yǐ)在(zài)大能(néng)量範(fàn)圍(wéi)的非掃描(miáo)式采集後提(tí)供穩定的測量(liáng)結(jié)果
· 非等間距譜數(shù)據(jù)處理可在(zài)大(dà)波矢(shǐ)範圍內提升信噪(zào)比(bǐ)。
hiXAS實驗(yàn)室(shì)級解決(jué)方案

hiXAS 對(duì) 10  μm  銅箔(bó)的(dí) XAFS  測量示例,對(duì)比(bǐ)實驗室(shì)係統(紅綫)與(yǔ)同步(bù)輻(fú)射(shè)(黑綫)結果(guǒ)。左(zuǒ)圖(tú)為 EXAFS  振(zhèn)蕩,右圖為對應的傅裏(lǐ)葉(yè)變換結果(guǒ)。

所(suǒ)有峰位(wèi)均被(bèi)精(jīng)確重現(xiàn)。測量(liáng)時(shí)間(jiān)為 3 分鐘(zhōng)。

文獻(xiàn)來(lái)源:J. Anal. At. Spectrom. 35, 2298 (2020)
hiXAS實驗室(shì)級(jí)解決方(fāng)案

hiXAS 可用於(yú) EXAFS 和 XANES 測量的主(zhǔ)要(yào)元(yuán)素範(fàn)圍。對(duì)於更高(gāo)能量(liáng)的吸(xī)收(shōu)邊(biān),可通過定(dìng)製化(huà)係統版本進(jìn)行擴展(zhǎn)測(cè)量。

技術(shù)參數

hiXAS實(shí)驗室級(jí)解(jiě)決(jué)方(fāng)案


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