激光M2因子分析儀(yí)是模(mó)塊式的(dí),包括一個光(guāng)學(xué)掃描器,安裝(zhuāng)於(yú)溫度(dù)濕(shī)度(dù)都可(kě)控的(dí)腔(qiāng)室(shì)裏,基本配(pèi)置(zhì)可實現二(èr)維(wéi)輪廓的靜(jìng)態(tài)特征(zhēng),及(jí)通(tōng)過熱噪(zào)聲和(hé)單(dān)點測量來確(què)定的諧(xié)振頻率(shuài),除了(liǎo)基(jī)本配(pèi)置,還(huán)可配備(bèi)如(rú)下工(gōng)作(zuò)模塊(kuài):
動態模塊(kuài)可以(yǐ)測(cè)量任(rèn)何振動器件的全譜響應(yīng),無論(lùn)是依靠(kào)熱激勵(lì)或者(zhě)是(shì)外力激勵(壓(yā)電(diàn)驅動)同時能提(tí)供(gōng)機械(xiè)振動的實(shí)時成像。如:機械傳感器的(dí)動(dòng)態特(tè)性可以用一個(gè)簡單(dān)且用(yòng)戶(hù)友好(hǎo)的(dí)方式測得。
分析(xī)儀基於半(bàn)導體(tǐ)激(jī)光(guāng)吸收(shōu)光譜(pǔ)技術(shù),無需(xū)采(cǎi)樣(yàng)預處理係統(tǒng),能夠在(zài)高溫,高粉塵,高腐蝕等惡(è)劣的(dí)環(huán)境(jìng)下(xià)進行原位(wèi)氣體(tǐ)濃度測量(liáng)的分(fēn)析儀(yí)表(biǎo),采(cǎi)用隔(gé)爆設(shè)計,無(wú)需(xū)對(duì)儀(yí)表進行正壓吹(chuī)掃,提高儀表(biǎo)的(dí)應(yīng)用適應性,為(wéi)缺(quē)乏正壓(yā)氣(qì)源或(huò)氣源壓(yā)力(lì)不(bù)穩(wěn)定的應用場(cháng)合提供了完(wán)整的防爆選(xuǎn)擇方案,從根本上解決(jué)了(liǎo)采樣預處(chǔ)理帶來(lái)諸(zhū)如響應(yīng)滯(zhì)後(hòu),維護(hù)頻(pín)繁,易堵易漏(lòu),易損(sǔn)件多(duō)和(hé)運(yùn)行(háng)費用高等(děng)各種問題,並具有如下(xià)特點:
1.無(wú)氣(qì)體交叉(chā)幹擾(rǎo),特定(dìng)組(zǔ)分(fēn)氣體隻在特(tè)定波(bō)長下存在吸收譜(pǔ),具有較(jiào)強的(dí)氣體選擇(zé)性;
2.光路(lù)設(shè)計(jì),能(néng)有效消(xiāo)除現場(cháng)振(zhèn)動對光(guāng)路(lù)的(dí)影(yǐng)響(xiǎng);
3.激(jī)光(guāng)M2因(yīn)子分析儀測量方式(shì)靈(líng)活(huó),既(jì)可適應於高(gāo)達(dá)1000℃高(gāo)溫(wēn)下的(dí)原(yuán)位(wèi)測量,亦可(kě)配(pèi)備(bèi)旁路(lù)采樣係統(tǒng)對氣(qì)體(tǐ)分(fēn)析(xī)監(jiān)測;
4.光(guāng)強補償算(suàn)法,保證儀器在(zài)高(gāo)粉(fěn)塵(chén),高(gāo)顆粒物(wù)的工(gōng)況條(tiáo)件下仍(réng)準(zhǔn)確(què)分析監測;
5.多種測量方式,直接吸收(shōu),1f,2f等,結合(hé)專業的(dí)譜(pǔ)圖分析方(fāng)法,保證測量結果(guǒ)的靈敏(mǐn)度(dù)和(hé)綫(xiàn)性(xìng)範(fàn)圍(wéi);
6.溫(wēn)度(dù),壓力補償,外(wài)部(bù)溫(wēn)度,壓力輸入或(huò)內置(zhì)溫度,壓(yā)力傳感(gǎn)器,結合(hé)優(yōu)化(huà)的補償算(suàn)法(fǎ),提高測量準確性。
